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7nm EUV芯片首次流片成功 5nm明年试产/华为Mate 20/Pro差异细节曝光:Pro可5倍

新技术 | 发布时间:2018-10-14 | 人气: | #评论# | 本文关键字:芯片
摘要:全球一号代工厂台积电宣布了有关极紫外光刻(EUV)技术的两项重磅突破,一是首次使用7nm EUV工艺完成了客户芯片的流片工作,二是5nm工艺将在2019年4月开始试产。 今年4月开始,台积电 第一代

全球一号代工厂台积电宣布了有关极紫外光刻(EUV)技术的两项重磅突破,一是首次使用7nm EUV工艺完成了客户芯片的流片工作,二是5nm工艺将在2019年4月开始试产。今年4月开始,台积电第一代7nm工艺(CLN7FF/N7)投入量产,苹果A12、华为麒麟980、高通“骁龙855”、AMD下代锐龙/霄龙等处理器都正在或将会使用它制造,但仍在使用传统的深紫外光刻(DUV)技术。

而接下来的第二代7nm工艺(CLNFF+/N7+),台积电将首次应用EUV,不过仅限四个非关键层,以降低风险、加速投产,也借此熟练掌握ASML的新式光刻机Twinscan NXE。

7nm EVU相比于7nm DUV的具体改进公布得还不多,台积电只说能将晶体管密度提升20%,同等频率下功耗可降低6-12%。

如今在7nm EUV工艺上成功完成流片,证明了新工艺新技术的可靠和成熟,为后续量产打下了坚实基础。

台积电没有透露这次流片成功的芯片来自哪家客户,但是想想各家和台积电的合作关系,其实不难猜测。

7nm之后,台积电下一站将是5nm(CLN5FF/N5),将在多达14个层上应用EUV,首次全面普及,号称可比初代7nm工艺晶体管密度提升80%从而将芯片面积缩小45%,还可以同功耗频率提升15%,同频功耗降低20%。

2019年4月,台积电的5nm EUV工艺将开始风险性试产,量产则有望在2020年第二季度开始,正好满足后年底各家旗舰新平台。

台积电5nm工艺的EDA设计工具将在今年11月提供,因此部分客户应该已经开始基于新工艺开发芯片了。

随着半导体工艺的急剧复杂化,不仅开发量产新工艺的成本大幅增加,开发相应芯片也越来越费钱,目前估计平均得花费1.5亿美元,5nm时代可能要2-2.5亿美元。

PS:Intel刚发布的秋季桌面平台仍然都是14nm,而拖延已久的10nm要到明年才能量产,7nm则是遥遥无期,5nm就更别提了。

华为Mate 20/Pro差异细节曝光:Pro无3.5耳机孔、可5倍光学变焦

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当然能,最明显的就是Mate 20的后指纹,而Pro将搭载3D结构光技术(是否屏幕指纹待考)。

仔细看的话,还有极重要的差异,Mate 20的顶部预留了3.5mm耳机孔,Mate 20 Pro则没有。不难推测,IP67防水特性的存留方式可能也和去年Mate 10/Pro一样,即前者不支持,后者支持。

另外,虽然去年Mate 10/Pro的拍照模组完全一致,可从Roland掌握的资料看,今年的Mate 20略有“减配”,两者的徕卡三摄在变焦范围上有所不同,Pro支持“怪兽级”的5倍光学变焦(16~80mm),Mate 20仅3倍(17~52mm)。

由此来看,考虑到Mate 20/Pro屏幕大小(6.5寸对6.3寸)、材质(LCD对OLED),华为越来越注重产品的区分度了,同时这也意味着,价格上会给用户更多的选jiu择jie。

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2018年IDC中国数字化转型年度盛典之人工智能与数字化平台

2018年IDC中国数字化转型年度盛典所举办的八大平行分论坛,聚焦了业界最新热点。其中人工智能与数字化平台分论坛颇受瞩目,邀请到了旷视科技、IBM、Qlik、中国东方航空、JDA、软通动力以及百度公司等资深专家,将从图像技术、认知智能、大数据高级预测分析轻松实现数据洞察、场景驱动的大数据变现、智能制造、智能营销以及人工智能系统部署实践方面进行分享。

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责任编辑:7nm EUV芯片

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